摘要
针对光刻工艺模拟,首次建立了光刻胶刻蚀过程模拟的2-D动态元胞自动机(CA)模型,通过制定规则来确定模拟过程中不断更新的表面元胞,使得模拟只需要计算表面元胞的刻蚀过程.模型既有稳定性好的优点,又有运算速度快的优点.采用一些公认的光刻速率分布测试函数非常有效地模拟了光刻过程,模型在刻蚀速率变化非常大的区域也非常稳定.
A two dimensional dynamic cellular automata （CA） model is presented for simulation of photoresist etching process for the first time. In the dynamic model, only etching front cells are processed in relevant etching steps, so the dynamic model is stable and fast. The model has been successfully tested using some well-known etch-rate distribution test functions.
出处
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第5期906-910,共5页
Acta Electronica Sinica
基金
国家杰出青年科学基金(No.50325519)
关键词
元胞自动机
工艺模拟
光刻模拟
工艺模型
cellular automata
process simulation
photolithography simulation
model
