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化学气相沉积技术发展趋势 被引量:13

Developing Tendency of the Chemical Vapor Deposition Technology
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摘要 综述了化学气相沉积技术制备薄膜材料的基本原理与工艺,分析了化学气相沉积技术的发展趋势,并展望其应用前景。 A review of the chemical vapor deposition technology was introduced. Discussions inculded the deposition and mechanism technics,in particular,the developing tendency and potential applications were analysed.
作者 张菁
出处 《表面技术》 EI CAS CSCD 1996年第2期1-3,共3页 Surface Technology
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共引文献2

同被引文献134

引证文献13

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