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等离子体化学气相沉积系统气路的微机控制
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摘要
详述了采用微机对等离子体化学气相沉积系统气路进行控制改造中的一些关键性技术。改进后的设备多路气源气体在沉积过程中可自动控制,并用改进后的设备采用逐层生长法制备了纳米硅薄膜。
作者
聂东林
杨丽颖
李毅
机构地区
山东建材学院
出处
《新技术新工艺》
北大核心
1996年第5期9-10,共2页
New Technology & New Process
关键词
计算机控制
气路
纳米硅薄膜
等离子体
分类号
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
TG174.442 [金属学及工艺—金属表面处理]
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新技术新工艺
1996年 第5期
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