期刊文献⁺

任意字段

题名或关键词

题名

关键词

文摘

作者

第一作者

机构

刊名

分类号

参考文献

作者简介

基金资助

栏目信息

未来CD-SEM校正标准的发展

下载PDF

导出

摘要在德克萨斯州立大学与Sematech协作的、德克萨斯发起的先进材料研究中心（AMRC），人们正在试图将硅纳米线应用于微电子行业，作为SEM测量标准。

作者 Alexander E.Braun

机构地区 Semiconductor International

出处《集成电路应用》 2006年第7期40-40,共1页 Application of IC

关键词测量标准德克萨斯州校正微电子行业研究中心先进材料硅纳米线 SEM

分类号 TN304.12 [电子电信—物理电子学] P207 [天文地球—测绘科学与技术]

引文网络
相关文献

1Alexander E. Braun.CD-SEM如何与散射成像相互补充[J].集成电路应用,2009,26(9):20-23. 被引量：2
2马琳.SEMATECH联合体的21世纪高超目标[J].电子材料（机电部）,1992(9):8-9.
3David Lammers.在(110)单晶硅上获得高性能nFET[J].集成电路应用,2008(4):24-24.
4Alexander E.Braun.侧墙计量有望顺利迈入32nm节点[J].集成电路应用,2007,24(5):33-36.
5精确之极：CAISO RISEMAN GW-9200[J].数码,2008(5):14-14.
6陈裕权.Sematech研究用Ge和SiGe作硅MOSFET沟道[J].半导体信息,2006,0(5):31-31.
7David Lammers.Sematech在VLSI会议上报告最新进展[J].集成电路应用,2008(9):30-30.
8Jesse Galloway.高传热性能封装中θ_(jc)测量的挑战[J].中国集成电路,2014,23(9):72-76. 被引量：2
9科学家开发出在SLA 3D打印时嵌入电子元件的方法[J].电子世界,2015(14):20-20.
10Alexander E. Braun.SEM还有未来吗?[J].集成电路应用,2008,25(3):82-82. 被引量：1

集成电路应用

2006年第7期

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...

;

使用帮助返回顶部