期刊文献+

抑制侧壁注入式磁敏晶体管结构的研究

Research on Suppressed Sidewall Injection Megnetotransistor Structure
下载PDF
导出
摘要 介绍了一种新型的用CMOS标准工艺制作的具有抑制侧壁注入效应的横向磁敏晶体管.理论分析及实验测量结果表明。 In this paper we present an over magnetotransistor made with standard CMOS technology.The device is a dual-collector lateral magnetotransistor with suppressed injection of the emitter sidewalls.A wide linear response to the magnetic field and very high sensitivi-ties are experimentally and theoretically demonstrated.
出处 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第7期24-27,共4页 Journal of Shanghai Jiaotong University
基金 复旦大学国家微分析中心资助项目
关键词 抑制侧壁注入 磁敏晶体管 CMOS工艺 suppressed sidewalk injection magnetotransistor CMOS technology
  • 相关文献

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部