摘要
明导国际（Mentor Graphics）认为，其最新的DFM（可制造性设计，designfor-manufacturing）将对集成电路设计人员设计”光刻友好”的集成电路布局提供帮助。该公司的新型Calibre LFD（光刻友好设计，lithography-friendly design）是一种类似于DRC／LVS（设计规则检查／低压信令，designrule-checking／low—voltage—signaling）的工具。不过，Calibre LFD并不检查布局是否符合设计规则（例如线迹宽度和间距）与早期原理图，而是检查布局是否符合描述给定生产线剂量和焦点的光刻制造规则。该工具集成了与OPCVerify一样的引擎，它采用的是一种类似OPC（光学接近修正，optical-proximitycorrection）的技术，是Mentor在1月份为光刻设计人员推出的。
