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中芯国际采用ARM物理IP流片90纳米低功耗设计

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摘要 中芯国际和ARM日前宣布。中芯国际采用ARM(r)Artisan(r)物理IP系列产品中的ARM Metro(tm)低功耗/高密度产品和Advantage(tm)高性能产品.用于90nmLL(低渗漏)和G(主流)处理工艺。ARM称。2006年第四季度。客户可通过ARM网站免费获取用于中芯国际90nm工艺的ARM物理IP。
出处 《电子设计技术 EDN CHINA》 2006年第7期55-55,共1页 EDN CHINA

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