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HL——1M装置运行初期刮离层的杂质流分布
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摘要
HL-1M装置放电初期,硅收集探针暴露于等离子体边缘,利用表面分析分析研究等离子体刮离层中的主要杂质组分为C,Fe,Cr,Ni和Al同时给出刮离层中的杂质流通及其分布。
作者
洪文玉
张年满
机构地区
核工业西南物理研究院
出处
《四川真空》
1996年第3期18-22,共5页
关键词
表面分析
杂质流通量
托卡马克装置
分类号
TL631.24 [核科学技术—核技术及应用]
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四川真空
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