用“尺子”实现纳米精密光刻校准

计量校准总是由两部分组成：精密度和准确度。就如Sematech定义的，统计过程控制准确度是指测量值或观测值与实际值或公认参考值的接近程度，精密度是指反复测量的固有偏差的度量。很明显，出于校准目的，精密度总是比准确度更重要，特别是为了使各种平台测量之间的变化尽可能小时对设备的准确匹配。这样，就可以理解这些年来检测和工艺设备OEM对提高精密度的不懈努力。在CD-SEM设备领域尤其如此。同时，对先进的亚100nm技术节点来说，准确度在通常所指的“总计量不确定”中的作用越来越重要，通常结合设备和校准标准的不确定性一起来定义，使得标准更严格，不确定性极小。