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含邻位羟基Schiff碱近晶相液晶中的高强向错 被引量:4

The High Strength Disclination Points in the Schlieren Texture of the Schiff Base Type Liquid Crystal
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摘要 含邻位羟基Schiff碱近晶相液晶中的高强向错张其震,崔利,孙继润(山东大学化学院,济南,250100)关键词高强向错点,近晶相纹影织构,液晶纹影(Schlieren)是向列相液晶织构的常见形式,某些近晶相液晶也可出现纹影织构,其特征为以消光黑点为中... The observation of smectic schlieren textures with singularities of high stgrength in the sample is reported.The sample is Schiff-Base type liquild crystal with ortho-hydroxy, 4-undecenoyloxy resorcylidene-4′-decyloxyaniline.The highest strength of these singularity points is-8,the singularity points with S=-6,-4,-3,-2 are also observed,and their stability is good.The forming process of the singularity points with high strength is also observed,the center of the disclination points is an isotropic area.
机构地区 山东大学化学院
出处 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1996年第11期1804-1806,共3页 Chemical Journal of Chinese Universities
基金 国家自然科学基金 国家科学技术委员会攀登计划基金 山东省自然科学基金 中国科学院高分子物理联合开放实验室基金
关键词 高强向错点 近晶相 纹影织物 液晶 邻位羟基 High strength disclination points,Smectic schlieren texture,Liquild crystal
  • 相关文献

参考文献2

  • 1Zhou Q,Liq Cryst,1993年,13卷,851页
  • 2Song W,Makromol Chem Rapid Commun,1993年,14卷,605页

同被引文献6

引证文献4

二级引证文献24

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