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热壁LPCVD设备使用中几个问题的探讨
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摘要
文章就热壁LPCVD设备使用过程中出现的几个问题作了较全面的分析,提出了一些解决办法,并就热壁LPCVD备设出现的故障及设备的维护谈了自己的一点体会。
作者
程开富
机构地区
重庆光电技术研究所
出处
《四川真空》
1996年第1期21-25,共5页
关键词
集成电路
光电器件
热壁LPCVD
薄膜
分类号
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
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四川真空
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