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中国环流器新一号(HL—1M)装置内壁的硼化 被引量:1

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摘要 用无毒,不燃固体材料碳硼烷与氦直流辉光放电在HL-1M内壁上原位涂复了含碳硼膜,平均厚度50-70nm,碳硼比约为1:6。硼化后器壁条件有了本质的改善。尽管省去了每天长达15小时的放电清洗,但本底真空仍然从(1-2)×10^-4Pa提高到(5-6)×10^-5Pa。
出处 《四川真空》 1996年第2期1-6,共6页
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