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诺发推出GAMMA EXPRESS
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摘要
诺发系统有限公司近日为300mm晶圆工艺推出光刻胶干法去除系统中的新产品GAMMA Express。GAMMA Express是同时适用于前段(FEOL)和后段(BEOL)工艺的单一产品平台,它为65nm和45m节点普通光刻胶去除和高剂量离子注入光刻胶去除(HDIS)提供了最高水平的技术、可靠性和生产力。
出处
《电子测试(新电子)》
2006年第8期110-110,共1页
Micro-Electronics
关键词
GAMMA
EXPRESS
EXPRESS
300MM晶圆
产品平台
光刻胶
离子注入
高剂量
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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电子测试(新电子)
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