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诺发推出GAMMA EXPRESS

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摘要 诺发系统有限公司近日为300mm晶圆工艺推出光刻胶干法去除系统中的新产品GAMMA Express。GAMMA Express是同时适用于前段(FEOL)和后段(BEOL)工艺的单一产品平台,它为65nm和45m节点普通光刻胶去除和高剂量离子注入光刻胶去除(HDIS)提供了最高水平的技术、可靠性和生产力。
出处 《电子测试(新电子)》 2006年第8期110-110,共1页 Micro-Electronics
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