SEZ隆重推出单晶圆FEOL光阻去除的创新解决方案

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摘要 SEZ集团在Semicon West上宣布开发出新型化学制程，将极大地改善前段制程（FEOL）中的光阻去除制程。SEZ的专有技术Enhanced Sulfuric Acid（ESA）去除制程能够利用一系列以硫酸为主的化学试剂，极大地缩减了目前在光阻去除机或者批式环境中实施的光阻去除制程的步骤：光阻重修、蚀刻植入后和光阻去除以及在等离子光阻去除制程之后的残留物去除等。

出处《中国集成电路》 2006年第8期6-6,共1页 China lntegrated Circuit

关键词光阻单晶圆化学试剂 SEZ集团专有技术制程残留物

分类号 TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学] TN43 [电子电信—微电子学与固体电子学]

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