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AMAT发布采用UV固化技术的low-k成膜设备

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摘要美国应用材料公司（AMAT）日前发布了面向45nm工艺（hp65）、能够形成相对介电常数为2．5的低介电常数（low-k）膜的CVD设备“Applied Produeer Black DiamondⅡ”。

出处《机电工程技术》 2006年第8期8-8,共1页 Mechanical & Electrical Engineering Technology

关键词成膜设备 UV固化技术相对介电常数 CVD设备低介电常数美国应用材料公司

分类号 TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]

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机电工程技术

2006年第8期

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