期刊文献+

新型感光交联剂的合成及其感光性研究

原文传递
导出
摘要 感光交联剂是微电子工业中光刻工艺所必需的一种重要添加剂.它对曝光光源十分敏感,受特定波长光照时能迅速生成活泼自由基,引发光致抗蚀剂(负性光刻胶)交联固化,合成该化合物对原料4-甲基环己酮的纯度要求高,相应的价格很贵.本文试图应用更为廉价易得的国产原料提高光刻灵敏度.目前我国生产线上使用最广的感光交联剂为日本东洋合成株式会社生产和BAC-M产品,其结构为:乙酰丙酮,合成一类新的感光交联剂,以取代进口的BAC-M.
机构地区 同济大学化学系
出处 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第21期2013-2014,共2页 Chinese Science Bulletin
  • 相关文献

参考文献1

  • 1顾振军,抗蚀剂及其微细加工技术,1989年

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部