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制造ITO新技术

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摘要 日本大阪市立工业研究所、巴制作所及奥野制药工业三家合作开发了氧化铟锡纳米颗粒胶,平均颗粒直径为15nm。把胶涂布在玻璃板上,在空气中550℃硗结10min,然后在氮气氛中烧结10min,得到膜厚650nm的ITO膜,其电阻率为5×10^-2Ω·cm。这样不用溅射设备,直接采用简单涂布工艺即可制造ITO膜。
出处 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期313-313,共1页 Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays
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