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制造ITO新技术
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摘要
日本大阪市立工业研究所、巴制作所及奥野制药工业三家合作开发了氧化铟锡纳米颗粒胶,平均颗粒直径为15nm。把胶涂布在玻璃板上,在空气中550℃硗结10min,然后在氮气氛中烧结10min,得到膜厚650nm的ITO膜,其电阻率为5×10^-2Ω·cm。这样不用溅射设备,直接采用简单涂布工艺即可制造ITO膜。
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第4期313-313,共1页
Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays
关键词
ITO膜
日本大阪市立工业研究所
制造
技术
涂布工艺
纳米颗粒
氧化铟锡
合作开发
制药工业
颗粒直径
分类号
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
TQ436.9 [化学工程]
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