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研究制定纳米印刷技术的标准
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摘要
纳米印刷光刻技术能够广泛的采用各种高分子有机材料制造微米乃至纳米尺寸的器件。这项技术使用1X的模具,因此能够以较为低廉的成本制造光学器件、分子生物器件、微机电系统甚至也许能够成为32纳米节点乃至更先进半导体技术的主流制造工艺。其工艺难点在于高分子有机材料的流动性无法预测,这将降低压印工具的图形均匀性表现从而引起损失良率。
作者
Aaron Hand
机构地区
Semiconductor International
出处
《集成电路应用》
2006年第8期24-24,共1页
Application of IC
关键词
纳米尺寸
印刷技术
制造工艺
标准
光学器件
有机材料
半导体技术
微机电系统
光刻技术
分类号
TN3 [电子电信—物理电子学]
TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
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集成电路应用
2006年 第8期
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