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采用AIM对铝金属化进行涂层控制
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摘要
当聚合物用于浅槽绝缘(STI)有源层和其它关键叠层时,先进图像计量学(AIM)靶比嵌套(BiB)叠层靶能提供更好的工艺稳定性,这点已被证明了。但是,目前以它们的技术极限进行DRAM铝后道工艺时,由测量噪声引起的不充分叠层控制造成返工和良率下降。
作者
Laura Peters
机构地区
Semiconductor International
出处
《集成电路应用》
2006年第8期28-28,共1页
Application of IC
关键词
金属化
AIM
工艺稳定性
涂层控制
DRAM
测量噪声
有源层
槽绝缘
分类号
TN305.2 [电子电信—物理电子学]
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集成电路应用
2006年 第8期
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