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ASML推出新一代浸入式光刻设备XT1900i
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摘要
ASML Holding NV公司近日推出了用于40nm及以下节点的新型193nm浸入式光刻设备Twinscan XTl900i，新设备将会在2007年中期发货。
出处
《电子工业专用设备》
2006年第9期28-28,共1页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
光刻设备
浸入式
一代
下节点
新设备
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
TF341.604 [冶金工程—冶金机械及自动化]
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电子工业专用设备
2006年 第9期
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