一种印制板新型工艺设备——等离子体去玷污

前言 许多年来,在双面及多层印制板制造中,为了获得电镀前良好的金属孔壁,必须除去孔壁上的树脂玷污(主要是印制板的基板材料)。先后曾采用了多种去玷污工艺(一般均采用湿式处理方法)。但由于印制板的高密度化,线与线的间距越来越细,孔径也越来越小,以及基板材料的不断变化(除原有的环氧玻璃、环氧树脂粘合剂外,又增加了聚酰亚胺、聚丙烯、聚四氟乙烯等材料。)使原有的湿式工艺已不能满足新形势下工艺的要求。例如①机械磨蚀法工艺存在着清洗孔壁区域不彻底,同时会使孔径发生变化和基板厚度难以控制以及对操作人员的技术水平要求高等问题;②有机溶剂(如三氯甲烷、