涂层超导体镍基带的电化学抛光方法

一种涂层超导体镍基带的电化学抛光方法。该方法可以减小涂层超导体镍基带表面的粗糙度。该方法包括：①以磷酸与丙三醇的体积比为95～105：0．1～0．5，配制电化学抛光液，其中，磷酸的浓度为85％；②以步骤①配制的电化学抛光液作为电解液，以涂层超导体镍基带作为阳极材料，不锈钢作为阴极材料，浸没在电化学抛光液中，接通电源，在5～10V电压，0．3～1A电流中进行抛光，时问控制在10～60min；③抛光后，将涂层超导体镍基片清洗、吹干。该工艺处理后的镍基带表面粗糙度大约为十几纳米，能够满足涂层超导体制备的要求。