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霍尔槽阴极电流分布规律的研究 被引量:4

AN INVESTIGATION OF DISTRIBUTIVE RULE ON CATHODIC CURRENT IN HULL CELL
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摘要 采用了工业上最常用的氯化钾镀锌、碱性锌酸盐镀锌、氰化物镀锌、低氰化物镀锌、酸性镀暗镍、酸性光亮镀镍、酸性光亮镀铜、氰化物镀铜、氰化物预镀薄铜、二元仿金及三元仿金镀等十一种工艺,在霍尔槽中进行了阴极电流分布规律的研究。对描述该规律的经验公式Dk=I(a-blgL),与实际测量值之间的偏差进行了讨论。
出处 《电镀与环保》 CAS CSCD 1996年第1期6-11,共6页 Electroplating & Pollution Control
  • 相关文献

同被引文献17

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  • 6曾华梁,电镀工艺手册(第2版),1997年,868页
  • 7章葆澄,电镀工艺学,1993年,28页
  • 8李鸿年,实用电镀工艺,1990年,541页
  • 9胡信国,现代防护装饰性电镀,1989年,50页
  • 10寺门龟一,金属表面技术,1976年,27卷,676页

引证文献4

二级引证文献14

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