高折射率浸没式光刻不一定是最后赢家

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摘要 ASML和Nikon最新一代的浸没式光刻设备其数值孔径（NA）已经接近了使用水作为浸没液体所能达到的光学理论极限了。在SEMICON West大会上，Nikon发布了它的最新一代浸没式光刻设备NSR-S610C，其数值孔径达到了1．3；而ASML的Twinscan XT：1900i的数值孔径更是达到了惊人的1.35。

作者 Aaron Hand

机构地区 Semiconductor International

出处《集成电路应用》 2006年第10期30-30,32,共2页 Application of IC

关键词光刻设备浸没式高折射率 SEMICON NIKON 数值孔径理论极限

分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]

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集成电路应用

2006年第10期

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