原子层淀积系统

下载PDF

导出

摘要原子层淀积系统FlexAL可以根据需求淀积超薄薄膜。设备采用等离子原子层淀积技术，能够在低温条件下得到高纯度、致密的薄膜，并且还能够使用热原子层淀积技术进行生产，这大大增强了设备的灵活性。设备已经具备生产高介电常数绝缘材料TiN、HfO2薄膜，室温淀积Al2O3薄膜和单层金属钌薄膜的能力，并能够兼容小样品到200mm硅片不同尺寸的操作对象。

机构地区 Oxford Instruments Plasma Technology

出处《集成电路应用》 2006年第10期53-53,共1页 Application of IC

关键词淀积技术原子层系统 AL2O3薄膜超薄薄膜 HFO2薄膜高介电常数低温条件

分类号 TN364.2 [电子电信—物理电子学]

引文网络
相关文献

1科技快递[J].今日中学生,2012(10):39-41.
2Roger Forrest,高国龙.二极管上装滤光片的技术已经成熟[J].红外,1999(11):14-17.
3沈天慧,汪师俊.化学汽相淀积技术（二十）[J].半导体杂志,1989,14(3):48-53.
4沈天慧,汪师俊.化学汽相淀积技术（十九）[J].半导体杂志,1989(2):47-54.
5沈天慧,汪师俊.化学汽相淀积技术（22）[J].半导体杂志,1992,17(3):38-48.
6沈天慧,汪师俊.化学汽相淀积技术（二十一）[J].半导体杂志,1990,15(1):48-53.
7Jonathan Harris Erich Rubel.高温热应用推动AuSn芯片粘接[J].集成电路应用,2007,24(11):52-54.
8沈天慧,汪师俊.化学汽相淀积技术（十八）[J].半导体杂志,1989(1):51-54.
9朱凯,田岱,伍琳,许建丽,金晓峰.Impurity effect on surface states of Bi(111) ultrathin films[J].Chinese Physics B,2016,25(8):335-339.
10高国龙.生长在InP上的InAs量子点红外光电探测器[J].红外,2005,26(9):14-14.

集成电路应用

2006年第10期

浏览历史

内容加载中请稍等...

原子层淀积系统

相关作者

相关机构

相关主题

浏览历史