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激光LIGA工艺实验设计

EXPERIMENT AND DESIGN FOR LASER LIGA PROCESS
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摘要 文章介绍了一种用于准分子激光深层光刻实验装置的设计,并根据该设计思想进行了可行性原理实验,取得了较好的结果。 The design of experimental apparatus used for deep-etch excimer laser lithography is introduced in this paper, According to the design idea an experiment has been performed to verify its feasibility and a good experiment result has been obtained.
出处 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 1996年第3期172-176,共5页 Journal of Functional Materials and Devices
关键词 LIGA 激光深层光刻 光刻 准分子激光 LIGA process,deep-etch laser lithography
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