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一种SiGe低噪声放大器测试基座的研究

Development of a Test System with a Plug-in-Unit for SiGe LNA
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摘要 对SiGe低噪声放大器(LNA)的测试技术进行了探索,开发出适合SiGe低噪声放大器的可插拔测试基座。通过对商业样品的增益G(S21)、增益平坦度、带宽、回波损耗(S11和S22)、反向隔离度(S12)1、dB压缩点(P1dB),三阶互调节点(IP3)和噪声系数(NF)等参数的测试,验证了测试系统的准确性。对所开发的单片SiGe低噪声放大器进行了测试,获得了准确的测试数据,准确表征了SiGe低噪声放大器的性能。 An investigation was made into test techniques for SiGe low noise amplifiers (LAN's). A test system with a plug-in-unit for SiGe LNA's was developed, and the accuracy of the test system was verified by testing parameters of a commercial sample circuit, such as gain G (S21), gain flatness, bandwidth, echo return loss (S11 and S22), reverse isolation (S12), 1 dB compresion point (P1dB), 3rd-order intermodulation point (IP3)and noise figure (NF). A monolithic SiGe low noise amplifier was tested, and accurate test data were obtained, which correctly characterize the performance of the SiGe low noise amplifier.
出处 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2006年第5期572-575,共4页 Microelectronics
关键词 锗硅低噪声放大器 S参数 测试基座 SiGe low noise amplifier S parameter Test bench
  • 相关文献

参考文献3

  • 1杨峰.微波技术与天线[M].成都:电子科技大学出版社.1993.
  • 2张萧文,陆兆熊.高频电子线路[M].北京:高等教育出版社,1992.
  • 3PapananosYE.通信用射频微电子电路[M].London:Kluwer Academic Publishers,2002..

共引文献1

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