摘要
全息介质的处理技术和工艺研究是全息测试技术的关键环节,美国LANL实验室在进行Holog次临界试验时曾因散射光使记录介质严重过曝而未能获取相关信息。通过对BB-520型全息记录介质的曝光、显影、定影、水洗等工艺过程的处理液配方、处理环境、处理温度、处理时间等的研究,提出全息记录介质的处理方法。曝光量和显影时间、显影温度是相互关联的3个量,在一定范围内曝光量饱和不足时,可以通过调节显影时间和显影温度两个参数来补偿。
出处
《中国工程物理研究院科技年报》
2004年第1期240-240,共1页
Annual Report of China Academy of Engineering Physics