在低温下生长的氮化镓薄膜

美国Los Alamos国家实验室开发了一种能在较低温度下生长晶态氮化镓薄膜的新技术。由于取消了传统技术所要求的较高温度和反应性环境对于所用基片材料的限制，本发明则大大扩大了所制得的氮化镓薄膜在光电子器件（例如激光二极管，高密度光学存贮器，平板显示器和固体照明等）方面的应用。该新技术是借助于低能量氮原子与同时流通的镓金属于100～150℃之间的温度下基于高能中性原子束在蓝宝石上外延生长晶态或多晶态氮化镓薄膜。所谓的高能中性原子束lithography，即Los Alamos装置，用来产生低动能的中性原子束。