XCY—2型线宽测量仪
-
1王云庆,李庆祥,薛实福,周兆英.纳米级精度的线宽测量仪[J].光学精密工程,1994,2(1):83-88. 被引量:1
-
2杜林,蒲石,史永贵,张进城,郝跃.深刻蚀方法对硅基SIWF通孔显微结构的影响[J].西安电子科技大学学报,2015,42(4):41-46. 被引量:2
-
3王玲,王淑华.市场和产品[J].微纳电子技术,2010,47(1):64-64.
-
4侯德胜,冯伯儒,等.激光直写系统在ASIC器件制作中的应用[J].世界产品与技术,2002(10):71-72.
-
5侯德胜,冯伯儒,张锦,杜春雷,邱传凯.激光直写系统制作掩模和器件的工艺[J].微细加工技术,1999(1):55-61. 被引量:4
-
6戴亚春,周建忠,王匀,马欣涛.MEMS的微细加工技术[J].机床与液压,2006,34(5):15-19. 被引量:6
-
7来凯泉,周京英,倪凌云,曹余新.一种新型掩模板设计方法[J].集成电路应用,2003,20(7):41-43. 被引量:1
-
8刘兴华,鲁闻生,姬濯宇,涂德钰,朱效立,谢常青,刘明.Fabrication of a 256-bits organic memory by soft x-ray lithography[J].Chinese Physics B,2010,19(5):499-504. 被引量:1
-
9陈幼松.光刻掩模位相移动法动向[J].半导体技术,1992,8(1):1-4.
-
10管伟,Larry Levit.光刻掩模的静电放电损伤及其防护[J].中国集成电路,2005,14(10):90-94. 被引量:2
;