摘要
本文运用了有限体积方法模拟了低压有机金属化学气相外延生长室的二维流场和热场的分布情况,分析了生长室内压力和基座转速对于流场和热场影响,指出了低压金属有机化学气相外延的优点所在。
The 2D simulations of flow, temperature in low pressure metalorganic chemical vapour deposition （LP-MOCVD） were described by finite volume method. The effects from the operating pressure and rotational speed of substrate are analyzed, and the merits of LP-MOCVD are pointed out.
出处
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第5期662-665,共4页
Journal of Materials Science and Engineering
基金
科技部973资助项目(2003CB314901)
