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可控硅通态饱和压降测量方法的论证
被引量:
1
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摘要
本文叙述了合理选择RLC回路的参数,能够产生测试所需要的半波正弦脉冲电流,并分析了回路参数RLC对振荡状态的影响。着重介绍了借助微机实现可控硅正向通态饱和压降的测量原理、方框图和方法。
作者
周世标
机构地区
上海第二工业大学
出处
《电测与仪表》
北大核心
1990年第6期23-26,38,共5页
Electrical Measurement & Instrumentation
关键词
可控硅
通态饱和压降
测量方法
分类号
TN34 [电子电信—物理电子学]
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.上海第二工业大学学报,1996,13(1):65-70.
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周世标,郑璞,朱自力.
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.上海第二工业大学学报,1996,13(1):65-70.
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电测与仪表
1990年 第6期
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