摘要
本工艺是近几年才发展起来的,它能解决电镀湿法工艺中的三废问题,能在金属、塑料、陶瓷、玻璃涂复上一层均匀的膜层.目前常用的有真空蒸镀、阴极溅射和离子镀三种.此类工艺的共同特点是:操作方便、占地少、效率高、无公害、无氢脆…….存在问题是:设备价格高,膜层的质量还存在着一些问题.它已成为传统的电镀工艺的竞争对手.真空蒸镀真空蒸镀是在一个真空系统中,将镀覆用的蒸发材料放在蒸发源的难熔金属丝上加热,通过电阻加热而将被覆材料离子化,蒸发在被镀零件表面.
出处
《电镀与精饰》
CAS
1990年第6期14-14,共1页
Plating & Finishing
