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溅射镀Ni-Co磁性膜的研究
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摘要
用电镀方法制作磁性靶材,在真空室中增设磁场进行溅射镀Ni-Co磁膜的方法。此方法已应用于计算机磁盘的生产中。
作者
许锦茂
李仲君
何育红
梁文萍
机构地区
山西矿业学院矿山机械系
电子工业部工艺研究所
出处
《真空科学与技术》
CSCD
1996年第4期306-308,共3页
Vacuum Science and Technology
关键词
溅射镀
磁性膜
镍-钴
薄膜
分类号
O484.43 [理学—固体物理]
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真空科学与技术
1996年 第4期
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