摘要
文章介绍了二次离子质谱仪的结构及其基本工作原理,并通过对典型应用的分析,介绍了二次离子质谱分析技术在高灵敏度碲镉汞红外焦平面探测器材料和器件制备工艺中的作用,特别是在结探监测和微量杂质监控方面所发挥的重要作用。
In the paper the structure and principle of the secondary ion mass spectrometry (SIMS) are reported, and its typical applications in the HgCdTe material and devices processing, especially in the measurement of the junction depth and the quantity analysis of trace impurity are introduced.
出处
《激光与红外》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第11期1013-1015,共3页
Laser & Infrared
关键词
二次离子质谱
碲镉汞
红外焦平面阵列
结深
杂质
secondary ion mass spectrometry (SIMS)
HgCdTe
IRFPA
junction depth
impurity