迎接挑战的先进光刻技术——《半导体国际》光刻技术研讨会

2006年10月24日，上海张江开发区龙东商务酒店，继“成品率提升研讨会”“晶圆清洗技术研讨会”后，《半导体国际》年度第三个研讨会“光刻技术研讨会”成功举办。