摘要
10月24日．《半导体国际》光刻技术研讨会在沪顺利举办．与会者与演讲嘉宾积极互动；借此机会．《半导体国际》邀请到来自晶圆厂和设备材料供应商的光刻技术方面权威的专家．成立“光刻技术专家委员会”，以此更好地服务于中国的半导体制造产业．并不断提升《半导体国际》一年一度的光刻技术研讨会的含金量。期望在未来能够借助专家的支持和《半导体国际》这一平台，与业内的工程师和制造商共同分享半导体行业最权威的知识和最迅捷的先进技术！
出处
《集成电路应用》
2006年第11期22-22,共1页
Application of IC
