脉冲氧化与恒流氧化的氧化过程和氧化膜性能

OXIDATION PROCESS OF PULSE OXIDATION AND CONSTANT CURRENT OXIDATION AND THE CHARACTERISTICS OF THEIR OXIDE FILM

测定了脉冲氧化和恒流氧化的氧化膜厚度、密度、硬度和耐磨性与氧化时间和通过电量的关系。对恒流氧化和脉冲氧化氧化膜不同厚度处的硬度和密度进行了比较，结果表明：一定厚度的氧化膜脉冲氧化与恒流氧化所耗电量几乎相同。在高电流密度下脉冲氧化能明显提高氧化膜密度、硬度和耐磨性，氧化膜密度和硬度在整个厚度范围内更为均匀。低电流密度下，氧化时间不长时脉冲氧化未显示明显优点。