PSG膜的潜力

导出

摘要 PSG膜是最早应用于半导体器件的表面钝化技术,随着电子工业的发展,逐渐应用于掺杂技术和表面平坦化技术,本文对这三方面的应用作简要分析。

作者张佐兰

机构地区东南大学微电子中心

出处《电子工艺技术》 1990年第4期13-17,31,共6页 Electronics Process Technology

关键词半导体器件表面纯化 PSG膜

1邢东,蒋敬旗.硫钝化表面改善GaAs MESFET电特性[J].半导体杂志,1996,21(4):4-7. 被引量：1
2杨国渝.聚酰亚胺在专用IC中的应用[J].微电子学,1990,20(6):36-42. 被引量：1
3吴成刚.聚酰亚胺表面钝化技术在线性IC中的应用[J].微电子学与计算机,1989,6(6):32-34. 被引量：1
4张佐兰.PSG膜钝化技术的最佳设计[J].电子器件,1991,14(1):51-54.
5蒋济昌.台面大功率管表面钝化工艺的改进[J].微电子学与计算机,1989,6(6):27-28.
6周咏东,方家熊,李言谨,龚海梅,吴小山,靳秀芳,汤定元.Au/CdTe+ZnS/HgCdTe双层介质膜MIS器件的制备及研究[J].红外与毫米波学报,2001,20(4):249-252.
7李毅,何嵩,易新建.碲镉汞表面氧化特性的光电子能谱研究[J].Journal of Semiconductors,1997,18(12):888-893. 被引量：1

电子工艺技术

1990年第4期

浏览历史

内容加载中请稍等...