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LOCOS(局域硅氧化工艺)一种用于静电电机的微加工工艺

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摘要本文给出了一种利用局域硅氧化工艺生产静电微米规模电机的新型工艺.这种电机的草图如(1)图所示,它基于五道掩膜工艺,简述如下,具有连续腐蚀到衬底的氮化硅层的淀积和光刻,硅的选择性氧化LOCOS,用于转子电刷的部分选择性氧化物的腐蚀。

作者黄庆安

出处《电子器件》 CAS 1990年第2期51-51,共1页 Chinese Journal of Electron Devices

关键词微电机静电 LOCOS 微加工工艺

分类号 TM380.5 [电气工程—电机]

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1990年第2期

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