标准CMOS技术实现场氧微桥、悬浮薄膜

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摘要我们发现在标准CMOS工艺中有许多工艺可应用到微机械结构的制造中去.仅仅增加一步无需掩膜的KOH腐蚀工艺,用工业化3微米CMOS工艺(加拿大北方电讯电子有限公司提供)实现了许多微型桥、悬浮薄膜和螺旋弹簧微机械结构.

作者孙国梁

出处《电子器件》 CAS 1990年第2期44-44,共1页 Chinese Journal of Electron Devices

关键词 CMOS技术微机械结构工艺薄膜

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电子器件

1990年第2期

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