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FSI国际推出采用其MAGELLAN浸泡式清洗系统的新型氮化硅选择性蚀刻工艺

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摘要 FSI国际有限公司于2006年11月27日宣布。推出全新的选择性氮化物蚀刻工艺。该工艺采用FSI国际的MAGELLAN浸泡式清洗系统。可以抑制氧化硅和硅的侵蚀并避免产生大量微粒。这些应用在FSI实验室中通过使用客户的网片得以开发和验证,并已成为先进的45nm工艺项目的一部分。此外。这些应用对前几代技术同样有效。
出处 《电子与封装》 2007年第2期3-3,共1页 Electronics & Packaging

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