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砷化镓半导体外延层的电子声成像

Electron-Acoustic Microscopic Study of GaAs Epitaxial Layers
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摘要 本实验利用扫描电子声显微镜对CaAs半导体外延片生长缺陷进行了电子声成像。通过分析不同条件下获得的电声图像,讨论了CaAs半导体外延片在电声成像中其电声信号的产生机制。 Scanning electron microscope has been used to study the growth defects in GaAs epitaxial layers.The mechanism of electron acoustic signal formation in GaAs has been discussed.The results indicate this technique is promising in semiconductor material analyses and assessment.
出处 《分析测试学报》 CAS CSCD 1996年第6期27-31,共5页 Journal of Instrumental Analysis
基金 "8 6 3"高技术和国家自然科学基金资助项目
关键词 SEAM 砷化镓 缺陷 电子声成像 SEAM,GaAs,Defect.
  • 相关文献

参考文献4

  • 1张冰阳,Asian Meeting on Ferroelectrics,1995年
  • 2殷庆瑞,Ferroelectrics,1994年,151卷,97页
  • 3殷庆瑞,电子显微学报,1990年,4卷,53页
  • 4殷庆瑞,自然杂志,1985年,8卷,345页

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