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DFM接纳制程可变性
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摘要
EDA供应商已经开始通过提供各种针对化学机械抛光(CMP)和光刻制程的产品来解决制程可变性问题。一项专门针对晶体管参数可变性的新技术已被开发出来.它使用TCAD来了解那些最终可能会影响器件性能和成品率的基本物理现象。目前.Synopsys正在向业界推出一种名为“具备制程知识的可制造性设计(PA—DFM)”的解决方案.用于在定制/模拟设计阶段分析可变性对45nm器件的影响。
作者
Laura Peters
机构地区
Semiconductor International
出处
《集成电路应用》
2007年第1期29-29,共1页
Application of IC
关键词
可变性
制程
化学机械抛光
可制造性设计
器件性能
物理现象
分类号
TN305.2 [电子电信—物理电子学]
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集成电路应用
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