摘要
本实用新型涉及一种等离子热丝法化学气相沉积金刚石膜的装置，属于化学气相沉积领域。本实用新型在传统热丝法化学气相沉积装置中引入等离子辉光放电，即在化学气相沉积装置真空室中的热丝的上方设置一上电极，在基台和上电极上的可调圆盘之间通过直流电源施加较高的偏压，使基台与圆盘之间产生辉光放电，从而极大的提高了金刚石膜的生长速率；而且由于灯丝上不再施加偏压，故其使用寿命得到大幅度提高。另外，本实用新型装置可在50Pa至6000Pa气压范围方便的进行金刚石膜等薄膜材料的掺杂沉积，还可以用于制备类金刚石膜、氮化碳膜、氮化硼膜、碳化硅膜等薄膜和掺杂沉积，应用范围非常广泛。
