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掩模缺陷的数理分析

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摘要本文主要根据半年来，成套的30批缺陷检查的结果，进行一定的数理分析，以便从中获得改进工艺的效益。

作者邓君龙胡道媛游树达

机构地区中国华晶电子集团公司中央研究所

出处《微电子技术》 1996年第2期54-58,共5页 Microelectronic Technology

关键词掩模缺陷制造工艺集成电路

分类号 TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]

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微电子技术

1996年第2期

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