LB膜抗蚀层在光刻中的应用
摘要
本文概述了LB超薄抗蚀层用于光刻研究的历史及现状，指出：发展实用化的LB超薄抗蚀层技术对于微电子工业中深亚微米乃至纳米水平的微细加工具有重要的意义。
出处
《微电子技术》
1996年第4期23-27,共5页
Microelectronic Technology
-
1顾宁,钱峰,洪庆月,陆祖宏,于向东,彭力,张仲毅,赵丽新,张海平,刘永宽.LB技术制备大面积超薄PMMA抗蚀层的研究[J].微细加工技术,1996(2):39-43.
-
2用原子制造出新材料[J].光学精密机械,2015,0(3):25-26.
-
3杨水龙.我国光纤光缆的生产历史及现状[J].通讯产品世界,1997(1):29-30.
-
4刘勍,张少刚,齐世平.现代模拟电路故障诊断新方法[J].信息与电子工程,2006,4(6):476-480. 被引量：8
-
5干膜电镀破孔与渗镀问题的改善办法[J].材料保护,2009,42(11):51-51.
-
6干膜电镀破孔与渗镀问题的改善办法[J].材料保护,2009,42(5):62-62.
-
7蔡积庆.再生退Sn—Pb溶液[J].电子工艺简讯,1994(4):13-14.
-
8李海.提高性能,降低成本的PCB制造技术[J].印制电路信息,1995,0(8):12-16.
-
9鲁武,顾宁,韦钰,沈浩瀛,张岚.聚甲基丙烯酸甲酯LB膜用作高分辨率电子束抗蚀层的研究[J].电子科学学刊,1994,16(6):651-654.
-
10严惠娟,吴金华,付海涛,罗永红,陈培峰.数字喷墨打印技术在PCB抗蚀层制作中的初步研究[J].印制电路信息,2013(12):14-17. 被引量：1
