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用电化学阻抗谱法研究冷却水系统腐蚀和结垢过程以及它们的抑制机理

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摘要 用电化学阻抗谱法(EIS)研究了碳钢/冷却水界面.揭示了碳钢/冷却水界面腐蚀和结垢产物层的形成和演化过程。发现该层的性质取决于使用的抑制剂的性能。如缓蚀剂羟基膦酰基乙酸(HPA)与Ca^2+离子螯合生成的产物层具有很好的缓蚀作用。另外,阻垢剂HEDP进入碳酸钙晶体表面。改变了晶体结构,减少了界面上垢的形成,同时还有缓蚀的功能.
作者 李绍全
出处 《工业水处理》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期74-74,共1页 Industrial Water Treatment
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