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射频溅射淀积PZT铁电薄膜及其结构分析
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摘要
在镀Pt的Si基底上用射频溅射方式制备了Pb(Zr0.55Ti0.45)O3铁电薄膜,成膜温度为250℃。X射线衍射分析表明几乎没有焦绿石相产生。另一方面,氧化钛-氧化锆固溶体则作为反应产物出现,由此提出了PZT固溶体的一种可能的形成机理。
作者
李兴教
刘建设
出处
《华中理工大学学报》
CSCD
北大核心
1996年第A01期118-120,共3页
Journal of Huazhong University of Science and Technology
关键词
铁电薄膜
结构分析
溅射
锆钛酸铅
PZT
分类号
TN304.9 [电子电信—物理电子学]
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