多晶TiN薄膜的择优取向不一定受应力控制
-
1何必.多晶TiN/NbN超晶格涂层的非平衡反应性磁控溅射沉积[J].等离子体应用技术快报,1994(8):15-16.
-
2郭耀华.简论铁路通信光缆工程之施工[J].科技风,2013(4):126-126.
-
3郭辉,王煜,张海霞,田大宇,张国炳,李志宏.PECVD SiC薄膜的应力控制及抗腐蚀特性研究[J].中国机械工程,2005,16(z1):346-348. 被引量:2
-
4半导体材料[J].电子科技文摘,2001,0(3):7-7.
-
5DA Xiao-li XU Chen GUAN Bao-lu SHEN Guang-di.Stress Controlled Silicon Nitride Thin Film Deposited by Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition[J].Semiconductor Photonics and Technology,2007,13(2):141-145.
-
6江冰松,唐龙谷.应力对IGBT电性能的影响及应力来源研究[J].大功率变流技术,2015(2):67-70.
-
7程鑫彬,沈正祥,焦宏飞,马彬,张锦龙,丁涛,王占山.SiO2/HfO2高反射膜的研制[J].强激光与粒子束,2012,24(6):1276-1280. 被引量:3
-
8王玺,方晓东.准分子激光辐照K9玻璃的热力效应分析[J].强激光与粒子束,2016,28(4):11-16. 被引量:5
-
9王玺,李化,聂劲松.脉冲CO_2激光辐照K9玻璃的热力效应分析[J].光学与光电技术,2008,6(4):49-52. 被引量:3
-
10王玺,方晓东.K9玻璃在脉冲CO_2激光作用下的热应力分析[J].强激光与粒子束,2014,26(5):32-35. 被引量:5
;